Рассчитайте время задержки (в нс) распространения сигнала в линии межсоединения сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) при известных значениях диэлектрической постоянной и толщины слоя изолятора ( и ), толщины и удельного электрического сопротивления слоя металлизации ( и ) и длины межсоединения (). = 3,9; = 100 нм; = 120 нм; = 2,66 мкОм*см; = 4 мм. Ответ введите с точностью до второго знака после запятой.
(Ответ необходимо ввести в поле ввода.)
Варианты ответа